[发明专利]一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法有效
| 申请号： | 201010214239.0 | 申请日： | 2010-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN102314523A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 吴玉平;陈岚;叶甜春 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法，涉及集成电路技术领域。本方法根据输入的集成电路物理版图数据，对物理版图按计算节点进行区域划分，对不同计算节点内的区域进行同构分析，确定各计算节点内及相互之间的相同区域分析顺序，按顺序对物理版图区域进行分析和优化，在分析和优化过程中复用计算节点之间同构区域分析和优化的结果。本发明利用多级区域分割算法对物理版图进行划分，利用同构分析方法对划分后区域进行分析，找出其中相同的区域，让时间顺序上在后的要分析和优化的区域，不用再进行计算，而是直接复用与其完全相同的在先区域计算结果，从而节约时间，提高速度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 加速 集成电路 物理 版图 分析 优化 方法 | ||
【主权项】：
一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法，包括：步骤1：输入集成电路物理版图数据；步骤2：对物理版图进行区域划分；步骤3：将不同的区域交给不同的计算节点；步骤4：各计算节点对分配的区域进行分析和优化；步骤5：输出集成电路物理版图分析结果；其特征在于，所述步骤4具体包括：步骤41：对计算节点内的区域再进行多级划分得到更小的区域；步骤42：分别对各计算节点内的区域进行同构分析，确定相同的区域；步骤43：对各计算节点之间的区域进行同构分析，确定相同的区域；步骤44：根据同构步骤42、步骤43的分析结果，确定各计算节点内及相互之间的区域分析顺序；步骤45：按顺序对区域进行分析和优化，在分析和优化过程中复用计算节点之间同构区域分析和优化的结果。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所，未经中国科学院微电子研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010214239.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
