[发明专利]基于纳米CdS薄膜的太阳能电池制备方法无效

专利信息
申请号: 201010215802.6 申请日: 2010-06-29
公开(公告)号: CN101882653A 公开(公告)日: 2010-11-10
发明(设计)人: 王林军;黄健;唐可;张继军;贡伟明;夏义本 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: H01L31/20 分类号: H01L31/20
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及的是一种基于纳米CdS薄膜窗口层的高效太阳能电池制造方法,属于无机非金属材料器件制造工艺领域。该太阳能电池的制备方法是:通过磁控溅射法在导电玻璃上制备高禁带宽度的氧掺杂纳米CdS薄膜(CdS:O薄膜),在溅射时通入一定比例的氩气和氧气的混合气体,从而得到纳米CdS:O薄膜;薄膜制备后在氩气和氧气的混合气体及氯化镉的蒸汽下高温退火以改善薄膜性能;再在纳米CdS:O薄膜上制备CdTe或CdZnTe薄膜及背电极从而制备出太阳能电池。通过采用CdS:O薄膜制备太阳能电池,有利于提高基于CdS薄膜的太阳能电池的效率。
搜索关键词: 基于 纳米 cds 薄膜 太阳能电池 制备 方法
【主权项】:
一种基于纳米CdS薄膜的太阳能电池制备方法,其特征在于该方法具有以下工艺步骤:a.将透明导电玻璃放入磁控溅射仪的样品台上,溅射靶材为高纯CdS陶瓷靶;先用真空泵对溅射室抽真空至5~20Pa,然后用分子泵对反应室抽真空至10-3Pa以下;通入氩气和氧气的混合气体,然后溅射纳米CdS:O薄膜;氩气和氧气流量比为50/1~1/10,沉积气压为0.1~10Pa,溅射功率10~500W,溅射时间0.5~10分钟;b.将纳米CdS薄膜放入近空间升华沉积设备的样品台;将反应室抽真空至10-2Pa以下,升华源为高纯氯化镉晶体,升华源温度350~450℃,样品衬底温度350~450℃;通入氩气和氧气的混合气体,氩气和氧气流量比为50/1~1/10,腔体气压为0.5~5000Pa,热处理时间1~60分钟;c.采用磁控溅射法或近空间升华法在纳米CdS:O薄膜衬底上制备p型CdTe薄膜或CdZnTe薄膜,再在p型薄膜上制备背电极,从而制备出太阳能电池。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大学,未经上海大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010215802.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top