[发明专利]基于纳米CdS薄膜的太阳能电池制备方法无效
申请号: | 201010215802.6 | 申请日: | 2010-06-29 |
公开(公告)号: | CN101882653A | 公开(公告)日: | 2010-11-10 |
发明(设计)人: | 王林军;黄健;唐可;张继军;贡伟明;夏义本 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | H01L31/20 | 分类号: | H01L31/20 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及的是一种基于纳米CdS薄膜窗口层的高效太阳能电池制造方法,属于无机非金属材料器件制造工艺领域。该太阳能电池的制备方法是:通过磁控溅射法在导电玻璃上制备高禁带宽度的氧掺杂纳米CdS薄膜(CdS:O薄膜),在溅射时通入一定比例的氩气和氧气的混合气体,从而得到纳米CdS:O薄膜;薄膜制备后在氩气和氧气的混合气体及氯化镉的蒸汽下高温退火以改善薄膜性能;再在纳米CdS:O薄膜上制备CdTe或CdZnTe薄膜及背电极从而制备出太阳能电池。通过采用CdS:O薄膜制备太阳能电池,有利于提高基于CdS薄膜的太阳能电池的效率。 | ||
搜索关键词: | 基于 纳米 cds 薄膜 太阳能电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于纳米CdS薄膜的太阳能电池制备方法,其特征在于该方法具有以下工艺步骤:a.将透明导电玻璃放入磁控溅射仪的样品台上,溅射靶材为高纯CdS陶瓷靶;先用真空泵对溅射室抽真空至5~20Pa,然后用分子泵对反应室抽真空至10-3Pa以下;通入氩气和氧气的混合气体,然后溅射纳米CdS:O薄膜;氩气和氧气流量比为50/1~1/10,沉积气压为0.1~10Pa,溅射功率10~500W,溅射时间0.5~10分钟;b.将纳米CdS薄膜放入近空间升华沉积设备的样品台;将反应室抽真空至10-2Pa以下,升华源为高纯氯化镉晶体,升华源温度350~450℃,样品衬底温度350~450℃;通入氩气和氧气的混合气体,氩气和氧气流量比为50/1~1/10,腔体气压为0.5~5000Pa,热处理时间1~60分钟;c.采用磁控溅射法或近空间升华法在纳米CdS:O薄膜衬底上制备p型CdTe薄膜或CdZnTe薄膜,再在p型薄膜上制备背电极,从而制备出太阳能电池。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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