[发明专利]一种用于化学机械平坦化的抛光垫及其制造方法有效
| 申请号： | 201010217079.5 | 申请日： | 2010-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN101905448A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 雒建斌;韩桂全;刘宇宏;路新春 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B24D13/00 | 分类号： | B24D13/00;B24D18/00 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 童晓琳 |
| 地址： | 100084 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了属于化学机械平坦化工艺技术领域中的一种可用于化学机械平坦化的抛光垫及其制造方法。本发明抛光垫包括一基体层，所述基体层上设有一柔性纳米刷层。首先制备模板，再将聚合物溶液涂在基体层上，然后将模板上的纳米结构转移到基体层上，得到本发明的纳米刷抛光垫。本发明所述抛光垫与现有技术相比最突出的优势是具有柔性纤维结构，和被抛光表面在柔性接触下，实现材料去除，能最大程度上解决现有化学机械平坦化技术中遇到的应力问题，适用于超低压力下的CMP。此外还可以解决较硬抛光垫出现的划痕、过抛、蝶形和侵蚀等缺陷问题，获得更高质量的被抛光表面。本发明所述的抛光垫制作方法简单，工艺过程可控性好，抛光性能稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械 平坦 抛光 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于化学机械平坦化的抛光垫，其特征在于：所述抛光垫包括一基体层(12)，所述基体层(12)上设有一柔性纳米刷层(11)，所述柔性纳米刷层(11)工作表面具有如下特征的柔性纤维(10)：直径：1nm～10μm；间距：1nm～10μm；长度：100nm～1000μm；长径比：1∶10～10000∶1。
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