[发明专利]一种可调节对准系统照明光斑尺寸的光刻机有效
| 申请号： | 201010217847.7 | 申请日： | 2010-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN102314091A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 李欣欣;宋海军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种可调节对准系统照明光斑尺寸的光刻机，其中，离轴对准系统中的照明系统具有可调节照明光斑尺寸的光束调制装置。光束调制装置对照明系统输出光线的光斑大小及形状进行调整。本发明光刻机对准系统的照明系统可以在照射不同对准标记时，根据需要调节光斑大小。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调节 对准 系统 照明 光斑 尺寸 光刻 | ||
【主权项】：
一种可调节对准系统照明光斑尺寸的光刻机，包括：照明系统，提供曝光光束；掩模支架和掩模台，用于支承掩模版；掩模版，具有掩模图案和具有周期性结构的对准标记；投影光学系统，用于将掩模版上的掩模图案投影到硅片上；硅片，具有周期性光学结构的对准标记；硅片支架和硅片台，用于支承硅片，硅片台上有刻有基准标记的基准板；反射镜和激光干涉仪，用于掩模台和硅片台位置的测量；伺服系统和驱动系统，由主控制系统控制掩模台和硅片台的位移；以及离轴对准系统，用于掩模和硅片的对准；其特征在于，离轴对准系统中的照明系统具有可调节照明光斑尺寸的光束调制装置。
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