[发明专利]研磨头及化学机械研磨机台无效
| 申请号： | 201010217849.6 | 申请日： | 2010-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN102294646A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 邓武锋 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 牛峥;王丽琴 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种研磨头，与晶片接触的表面为圆形，所述圆形表面具有大于5个相对独立的区域，各个区域与相应的气动装置连接，由所述气动装置为研磨头各个区域提供压力。本发明还提供了一种包含上述研磨头的化学机械研磨机台。采用本发明的装置有效提高了研磨晶片的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 化学 机械 机台 | ||
【主权项】：
一种研磨头，与晶片接触的表面为圆形，其特征在于，所述圆形表面具有大于5个相对独立的区域，各个区域与相应的气动装置连接，由所述气动装置为研磨头各个区域提供压力。
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