[发明专利]一种Si-Al-C-N陶瓷先驱体的制备方法无效
申请号: | 201010218392.0 | 申请日: | 2010-07-06 |
公开(公告)号: | CN101870585A | 公开(公告)日: | 2010-10-27 |
发明(设计)人: | 谢征芳;蔡溪南;锁兴文;王军;薛金根;陈朝辉 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
主分类号: | C04B35/58 | 分类号: | C04B35/58;C04B35/56;C04B35/622 |
代理公司: | 长沙星耀专利事务所 43205 | 代理人: | 宁星耀 |
地址: | 410073 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | (1)一种Si-Al-C-N陶瓷先驱体的制备方法,其包括以下步骤:将主链含硅的氯硅烷经含-NH2的化合物氨解,过滤,再减压蒸馏,得到聚硅氮烷;(2)取一定量的聚硅氮烷置于三口烧瓶中,加有机溶剂四氢呋喃或甲苯溶解,按照Si和Al的摩尔比为1-5:1或1:2,加入含有Al-H的有机铝化合物;(3)在N2气氛保护下,将三口烧瓶置于室温下持续搅拌反应24-72h;(4)反应后在60-90℃减压蒸馏去除溶剂,即得到Si-Al-C-N陶瓷先驱体。本发明原料化合物多样、来源广泛;先驱体中Al的含量可控可调,Al在先驱体中可达分子级别匀化。反应过程易于控制,合成产率高,产物纯度高,热解产物具有优异耐高温性能和高温抗氧化性能。 | ||
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【主权项】:
一种Si-Al-C-N陶瓷先驱体的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将主链含硅的氯硅烷经含-NH2的化合物氨解,过滤,再减压蒸馏,得到聚硅氮烷;(2)取一定量的聚硅氮烷置于三口烧瓶中,加有机溶剂四氢呋喃或甲苯溶解,按照Si和Al的原子摩尔比为1-5:1或1:2,加入含有Al-H的有机铝化合物;(3)在N2气氛保护下,将三口烧瓶置于室温下持续搅拌反应24-72 h;(4)反应后在60-90 ℃减压蒸馏去除溶剂,即得到Si-Al-C-N陶瓷先驱体。
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