[发明专利]一种球面波成像数学模型及近场效应的补偿方法无效
申请号: | 201010219121.7 | 申请日: | 2010-07-02 |
公开(公告)号: | CN101900805A | 公开(公告)日: | 2010-12-01 |
发明(设计)人: | 胡伟东;孙厚军;吕昕;刘溶 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G01S7/02 | 分类号: | G01S7/02;G01S13/89 |
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地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种球面波成像数学模型及近场效应的补偿方法,属于微波成像技术领域。本发明的目的是为了解决微波成像在不满足远场条件的情况下,现有基于转台目标成像的经典数学模型难以提供目标成像的精度,测量结果近场效应明显,距离越近,位置偏移量越大,幅度估计误差越大等问题,提出了一种球面波成像的数学模型,并根据此模型对成像的近场效应进行修正补偿的方法。其原理为在原有数学模型的基础上,通过改进测量距离Rθ的精度,构造新的球面波成像的数学模型,并用此模型对成像的近场效应采用二维ESPRIT超分辨算法来进行修正补偿。本方法能够有效地补偿微波成像的近场效应,且具有运算量小,误差修正效果明显等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 球面 成像 数学模型 近场 效应 补偿 方法 | ||
【主权项】:
1.一种球面波成像数学模型及近场效应的补偿方法,其特征在于:包括如下步骤:步骤1,对现有转台目标二维成像数学模型作改进如下:令其中,g(x,y)为目标二维散射密度函数,目标与x-y坐标系绕O点顺时钟旋转,θ为u轴相对于x轴的旋转角度;x-y和u-v坐标系的原点均为O,R0为雷达到目标旋转中心O的距离,Rθ为目标在相对于u轴转过角度θ时,目标上任一点到达雷达天线的距离;φ为Rθ与R0之间的夹角;为目标x-y各点相对于坐标系的极坐标;弧线S代表到达雷达天线等距离的散射点的连线;将Rθ做二阶泰勒级数做近似可得:步骤2,由于实际情况一般满足小角度成像的条件,θ非常小,于是步骤1得到的Rθ可以化简为:R θ = R 0 + x + yθ + y 2 - 2 xyθ 2 ( R 0 + x ) ]]> 步骤3,在步骤2的基础上,对项进一步做近似:R θ 2 ≈ ( R 0 + x + y 2 2 R 0 + 2 x ) 2 ]]> 步骤4,在步骤3的基础上,对于频率步进体制测量雷达,满足k=k0+nΔk(Δk远小于k0),(其中k=2f/c,f为电磁波的频率,c为光速,n=0,1,…N-1);θ=mΔθ,m=0,1,…M-1;设P为目标区域独立的散射点个数(P<N,M);对步骤1所述的现有转台目标二维成像数学模型进行离散化,并进一步忽略二阶小量,得:z ( nΔk , mΔθ ) = ∑ p = 0 P - 1 g ( x p , y p ) ΔxΔy ]]>/ ( R 0 + x p + y p 2 2 R 0 + 2 x p ) 2 ]]> ·exp[-j2π(k0+nΔk)R0]· exp [ - j 2 π ( k 0 + nΔk ) · ( x p + y p 2 2 R 0 + 2 x p ) ] ]]>· exp [ - j 2 π k 0 mΔθ ( y p - x p y p R 0 + x p ) ] ]]> 其中,xp,yp为第P个目标散射点的横纵坐标;上式即为改进后的近场目标二维成像的数学模型;步骤5,进一步变形步骤4得到的数学模型;令:z ′ ( n , m ) = z ( nΔk , mΔθ ) exp [ j 2 π ( k 0 + nΔk ) R 0 ] x p ′ = x p + y p 2 2 R 0 + 2 x p y p ′ = y p - x p y p R 0 + x p ]]> 由于ΔxΔy为常数量,在数学变换中将被合并为一系数,因此在模型中可以省略,则步骤4所述的改进后的近场目标二维成像的数学模型变为:z ′ ( n , m ) = ∑ p = 0 P - 1 g ( x p , y p ) / ( R 0 + x p ′ ) 2 ]]> ·exp(-j2πk0x′p)·exp(-j2πnΔkx′p)·exp(-j2πk0mΔθy′p)步骤6,在步骤5的基础上,进行子空间矩阵分裂;由于z′(n,m)与z′(n+1,m)及z′(n,m+1)分别相差一个固定相位,则将z′(n,m)按一定方式排列,并形成三个子空间矩阵X,Y,Z;根据步骤5所得z′(n,m)的表示式,可以将X,Y,Z表示成如下形式:X = AS + N x Y = AΦS + N y Z = AΘS + N z ]]> X,Y,Z均为(N-1)×(M-1)维矩阵,A为(N-1)×(M-1)×P维矩阵,Ni(i=x,y,z)为测量噪声矩阵;而且有:A ( n , m , p ) = exp [ - j 2 π ( k 0 + nΔk ) x p ′ ] · exp ( - j 2 π k 0 mΔθ y p ′ ) S = [ g ( x 0 , y p ) / ( R 0 + x p ′ ) 2 , g ( x 1 , y 1 ) / ( R 0 + x 1 ′ ) 2 , · · · , g ( x P , y P ) / ( R 0 + x P ′ ) 2 ] Φ = diag ( exp ( - j 2 πΔk x 0 ′ ) , exp ( - j 2 πΔk x 1 ′ ) , · · · , exp ( - j 2 πΔ kx P ′ ) Θ = diag ( exp ( - j 2 π k 0 Δθ y 0 ′ ) , ( exp ( - j 2 π k 0 Δθ y 1 ′ ) , · · · , ( exp ( - j 2 π k 0 Δθ y P ′ ) ] ]]> 步骤7,在步骤6的基础上进行奇异值分解,得到目标散射点的个数;步骤8,通过步骤7中奇异值矩阵U1,V1计算的特征值,得到步骤6中Φ和Θ的对角元素的值;取步骤7得到的奇异值矩阵U1,V1中与P个散射点对应的奇异值的列矢量构成从而可以得到三个新矩阵:E x = U Λ 1 H X V Λ 2 E y = U Λ 1 H Y V Λ 2 E z = U Λ 1 H Z V Λ 2 ]]> 并定义E θ = E x - 1 E z ]]> 计算Eθ的特征值就可以得到Φ和Θ的对角元素的值;步骤9,在步骤8的基础上,确定变换矩阵Q使得对角化,并将这种变换应用于Eθ,即:QHEθQ=Tθ这里Tθ是一个近似上三角矩阵,和Tθ的主对角元素分别等于Φ和Θ的主对角元素;由于采用了相同的变换矩阵Q,和Tθ的主对角元素是一一对应的,故形成了参数的自动配对;实际上Tθ已经非常接近上三角矩阵,再做进一步的变换反而可能造成参数失配情况,这里直接取Tθ的对角元素为特征值;步骤10,在步骤9的基础上,得到目标散射点的位置估计坐标xp和yp;步骤11,完成步骤10后,计算得到目标散射点的散射强度。
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