[发明专利]同时含三苯乙烯和四苯乙烯结构的聚集诱导发光材料及其合成方法和应用有效
| 申请号： | 201010219154.1 | 申请日： | 2010-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN101928559A | 公开（公告）日： | 2010-12-29 |
| 发明（设计）人： | 池振国;许炳佳;黎小芳;李海银;张锡奇;王程程;周炜;张艺;刘四委;许家瑞 | 申请（专利权）人： | 中山大学 |
| 主分类号： | C09K11/06 | 分类号： | C09K11/06;C07C15/52;C07C1/32;C07C1/34;H01L51/54 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 周端仪 |
| 地址： | 510275 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于有机发光材料技术领域，公开了一种同时含三苯乙烯和四苯乙烯结构的聚集诱导发光材料，合成时将含功能基的三苯乙烯和四苯乙烯中间体通过偶联反应连接在一起。本发明的合成方法工艺简单，纯化方便，所合成的同时含三苯乙烯和四苯乙烯结构的有机发光材料不仅具有明显的聚集诱导发光性能，而且具有高的热稳定性，高的玻璃化转变温度，高的发光强度，适用于制备有机电致发光材料器件中的发光层材料。 | ||
| 搜索关键词： | 同时 苯乙烯 结构 聚集 诱导 发光 材料 及其 合成 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种同时含三苯乙烯和四苯乙烯结构的聚集诱导发光材料，其特征在于：结构如通式(1)或通式(2)所示：![]()
其中R1，R2，R3和R4中至少有一个为含四苯乙烯结构的基团，余下的选自H、C1～8烷基、C1～4烷氧基、二芳香氨基、咔唑基、苯基或含取代基苯基、苯基以外的其他芳香基；Ar基团选自共轭的芳香基或芳杂环基。
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