[发明专利]具有垂直取光机制的发光器件及其制作方法无效
| 申请号： | 201010220744.6 | 申请日： | 2010-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN102222743A | 公开（公告）日： | 2011-10-19 |
| 发明（设计）人： | 闫春辉;张剑平 | 申请（专利权）人： | 亚威朗(美国) |
| 主分类号： | H01L33/08 | 分类号： | H01L33/08 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种包括点阵结构的发光器件，可以通过减少光在发光器件光吸收媒质中的传播距离以使水平光导效应最小化，从而增强光从发光层射出的效率。该点阵结构包括内置在光吸收媒质中的侧壁和/或柱体，将光吸收媒质分割成一组区域单元。这些区域单元之间被侧壁完全或部分隔开。本发明还提供了一种制作包括点阵结构的发光器件的方法，该点阵结构包括内置在光吸收媒质中将光吸收媒质分割成一组区域单元侧壁和/或柱体。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 垂直 机制 发光 器件 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种发光器件，包括：一衬底，且具有与该衬底一体的从衬底的上表面向上延伸的点阵结构；形成在该衬底上的一N型层；形成在N型层上的一发光层；形成在发光层上的一P型层；其中，点阵结构穿过N型层和发光层。
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