[发明专利]具有高度清洗性的水溶性切削液有效
| 申请号： | 201010220826.0 | 申请日： | 2010-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN102311859A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 方彦文;卢厚德;佘怡璇;王兴嘉 | 申请（专利权）人： | 达兴材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C10M173/02 | 分类号： | C10M173/02;C10M161/00;C10M141/08;C10M135/08;C10M151/04;C10N40/22;C10N30/04;C10N30/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 苗征;于辉 |
| 地址： | 中国台湾台中市中*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有高度清洗性的水溶性切削液与一种切削硬脆材料的方法。所述水溶性切削液包含有机溶剂、阴离子表面活性剂与水。所述切削硬脆材料的方法，其使用所述水溶性切削液应用于硬脆材料的加工中，其中该水溶性切削液含有阴离子表面活性剂可作为水溶性极压添加剂。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 高度 清洗 水溶性 切削 | ||
【主权项】：
一种具有高度清洗性的水溶性切削液，包含：(i)50至99重量％的有机溶剂；(ii)0.01至10重量％的阴离子表面活性剂，其具有如式(I)所示结构： R‑Al‑Om‑Yn‑Z‑M (I)其中R为C5‑20烷基，A为C6‑12芳基，O为氧，Yn为聚氧乙烯基(‑CH2CH2O‑)n或聚氧丙烯基(‑CH2CH2CH2O‑)n，Z为硫酸根或磺酸根，M为氢、铵、碱金属或碱土金属或醇胺，l为0或1，m为0或1，n为0至50；及(iii)1至40重量％的水。
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