[发明专利]一种制备氮掺杂TiO2光催化薄膜的方法无效

专利信息
申请号: 201010221604.0 申请日: 2010-06-29
公开(公告)号: CN101884938A 公开(公告)日: 2010-11-17
发明(设计)人: 潘春旭;江旭东;王永钱 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: B01J37/02 分类号: B01J37/02;B01J21/06;C23C8/36;C25D11/26
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 张火春
地址: 430072*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种氮掺杂二氧化钛(TiO2)光催化薄膜的制备方法。首先采用离子渗氮工艺对金属钛或钛合金表面进行渗氮处理,之后再采用微弧氧化技术在渗氮后的金属钛或钛合金基体上原位生长TiO2薄膜。本发明应用于光催化净化领域,与未氮掺杂TiO2薄膜相比,对紫外光和可见光的吸收效率明显提高,光生电流强度明显增强,降解有机污染的降解效率显著提高。
搜索关键词: 一种 制备 掺杂 tio sub 光催化 薄膜 方法
【主权项】:
一种氮掺杂TiO2光催化薄膜的制备方法,其特征在于:首先采用离子渗氮工艺对金属钛或钛合金表面进行渗氮处理,之后再采用微弧氧化技术在渗氮后的金属钛或钛合金基体表面上原位生长氮掺杂TiO2薄膜。
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