[发明专利]夹层式熔融石英透射1×2分束光栅无效
| 申请号： | 201010224395.5 | 申请日： | 2010-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN101907735A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 周常河;孙文婷 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B27/28 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于1550纳米波段的夹层式熔融石英透射1×2分束光栅，特点在于其是由矩形深刻蚀光栅上加一层基底材料一体构成，该矩形光栅的周期为931-956纳米、刻蚀深度为1.022-1.064微米，光栅占空比为0.5。该夹层式1×2分束光栅可视为等效的法布里珀罗(F-P)腔，能有效抑制反射损失，可以在C+L波段宽角度范围使用。本发明石英光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺以及接合技术加工而成。由于光栅部分被夹在中间，可免于机械损伤和灰尘等，稳定性好。 | ||
| 搜索关键词： | 夹层 熔融 石英 透射 光栅 | ||
【主权项】：
一种用于1550纳米波段的夹层式熔融石英透射1×2分束光栅，包括在石英基片(2)上深刻蚀矩形光栅(4)，其特征是在所述的深刻蚀矩形光栅(4)上加一层厚度均匀的石英(3)一体构成的，该矩形光栅的周期为931～956纳米，刻蚀深度为1.022～1.064微米，光栅的占空比为0.5。
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