[发明专利]一种镁掺杂多孔纳米氧化钛涂层的制备方法及其应用无效
申请号: | 201010225723.3 | 申请日: | 2010-07-13 |
公开(公告)号: | CN101928974A | 公开(公告)日: | 2010-12-29 |
发明(设计)人: | 胡红杰;刘宣勇;丁传贤 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C25D11/26 | 分类号: | C25D11/26;A61L27/30 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 许亦琳;余明伟 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明属于生物陶瓷技术领域,具体涉及一种镁掺杂多孔纳米氧化钛涂层的制备方法及其应用。该方法在含有镁离子的电解液中,采用微弧氧化技术,直接在钛或钛合金表面一步法原位生成镁掺杂多孔纳米氧化钛涂层;其中,以所述电解液的体积计,镁离子的浓度范围为0.01~0.5mol/L。通过本发明的方法制得的镁掺杂氧化钛涂层物相主要由锐钛矿氧化钛和金红石氧化钛或纯锐钛矿组成,浸泡在缓冲溶液中时,镁离子能够在较长时间内从涂层中连续释放。造骨细胞在该涂层表面能够快速粘附和增殖,显示出良好的生物相容性,没有细胞毒性。与未掺杂氧化钛涂层相比,该涂层能够显著提高造骨细胞在涂层表面的增殖速率和活力。 | ||
搜索关键词: | 一种 掺杂 多孔 纳米 氧化 涂层 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】:
一种镁掺杂多孔纳米氧化钛涂层的制备方法,该方法在含有镁离子的电解液中,采用微弧氧化技术,直接在钛或钛合金表面一步法原位生成镁掺杂多孔纳米氧化钛涂层;其中,以所述电解液的体积计,镁离子的浓度范围为0.01~0.5mol/L。
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