[发明专利]凹槽摆动式喷丸装置及凹槽摆动式喷丸处理方法有效
申请号: | 201010226295.6 | 申请日: | 2010-07-09 |
公开(公告)号: | CN101879704A | 公开(公告)日: | 2010-11-10 |
发明(设计)人: | 山本翔一;石川光男 | 申请(专利权)人: | 新东工业株式会社 |
主分类号: | B24C3/26 | 分类号: | B24C3/26 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王轶;李伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种凹槽摆动式喷丸装置及凹槽摆动式喷丸处理方法,能够没有遗漏地处理被处理产品的表面,并在处理后完全排出,被高速抛射的弹丸不会向工作人员所在的外部漏出。在腔室(1)的内部经由两端的轴承能够摆动地支承凹槽(3),该凹槽(3)形成为U字状的船底形状,在其底部开有弹丸能通过且被处理产品(W)不能通过的孔(31)。收纳在产品流通箱(Q)中的被处理产品(W)由斗式装载机(9)投入到凹槽(3)内。在凹槽(3)中收纳被处理产品(W)后使其摆动,同时从配置于上部的离心式抛射装置(4)抛射弹丸。弹丸在下部被回收,用斗式提升机(7)提升而进行循环使用。 | ||
搜索关键词: | 凹槽 摆动 式喷丸 装置 处理 方法 | ||
【主权项】:
一种凹槽摆动式喷丸装置,用于除去附着在金属产品上的氧化皮,其特征在于,包括:腔室(1),其能够收容被处理产品(W),且全面包围以防止弹丸飞散而向外部漏出;闸门(2),其位于装置的正面,是为了向腔室(1)中投入被处理产品(W)而设置的,能够通过上升以及下降对腔室(1)进行开放以及密闭;凹槽(3),其配置于腔室(1)的内部,经由两端的轴承能够摆动地支承于腔室(1),形成为U字状的船底形状,在底部开有弹丸能通过且被处理产品(W)不能通过的孔(31);一台或多台离心式抛射装置(4),其配置于腔室(1)的上部,能够对弹丸进行加速;振动输送机(5),其配置于腔室(1)的下部,用于输送被抛射的弹丸和被处理产品(W),并能够分离产品和弹丸;下部螺旋输送机(6),其与振动输送机(5)连结,用于输送从振动输送机(5)分离回收的弹丸;斗式提升机(7),其与下部螺旋输送机(6)连接,能够向上方提升由下部螺旋输送机(6)输送的弹丸;分离器(8),其与斗式提升机(7)的上部连接,且具有集尘管道用凸缘;弹丸料斗(13),其配置于分离器(8)的下部,能够暂时贮存弹丸;与离心式抛射装置(4)个数相同的弹丸导入管(41),其以连接弹丸料斗(13)和离心式抛射装置(4)的方式配置;与离心式抛射装置(4)个数相同的截流闸门(42),其位于弹丸导入管(41)上,能够调节向离心式抛射装置(4)导入的弹丸的流量并进行开闭;和斗式装载机(9),其配置于腔室(1)的正面侧,能够对箱状铲斗(91)进行升降以及倾斜动作,该铲斗(91)能够搬入收纳有被处理产品(W)的产品流通箱(Q)。
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