[发明专利]化学机械研磨装置以及化学机械研磨方法无效
申请号: | 201010229401.6 | 申请日: | 2010-07-16 |
公开(公告)号: | CN102335868A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 唐强 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 20120*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学机械研磨装置以及化学机械研磨方法,该化学机械研磨装置包括:研磨平台;驱动装置,与所述研磨平台连接,用于驱动所述研磨平台旋转;传感器,与所述研磨平台连接,用于测量研磨平台的转速并将所述转速转换为转速信号;控制器,与所述传感器连接,用于接收传感器输出的转速信号并根据所述转速信号输出报警信号,以启动报警装置报警。所述传感器可测量所述研磨平台的实际转速,一旦所述研磨平台的转速出现异常,所述控制器可根据传感器输出的转速信号输出报警信号,操作人员即可知晓所述化学机械研磨机台出现故障并及时处理晶片,从而避免晶片报废。 | ||
搜索关键词: | 化学 机械 研磨 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
一种化学机械研磨装置,包括:研磨平台;驱动装置,与所述研磨平台连接,用于驱动所述研磨平台旋转;传感器,与所述研磨平台连接,用于测量所述研磨平台的转速并将所述转速转换为转速信号;控制器,与所述传感器连接,用于接收所述传感器输出的转速信号并根据所述转速信号输出报警信号,以启动报警装置报警。
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