[发明专利]蓝宝石衬底材料CMP抛光液的制备方法

摘要

本发明涉及蓝宝石衬底材料表面高精密加工过程中化学机械抛光(CMP)抛光液的制备方法。本方法抛光液选用纳米SiO2磨料，磨料的浓度为30-50wt％，粒径15-100nm，以利于材料的去除及表面平整化。抛光液的pH值9-13，既能满足有效去除，也能保证硅溶胶的稳定性；制备过程中采用密闭系统下负压搅拌制备法，避免了传统的复配、机械搅拌等制备方法带来的有机物、大颗粒、金属离子等的污染，可以达到超净的要求。

主权项

一种蓝宝石衬底材料CMP抛光液的制备方法，其特征在于：按照下述步骤进行(重量％)：(1)将密闭反应器系统用去离子水负压涡流下清洗三遍；密闭反应器原材料选用无污染的聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂；(2)在负压涡流状态下逐渐加入胺碱调节pH值，加入胺碱的量为1‑5％，无机强碱试剂用18MΩ以上超纯水稀释后在负压涡流状态下逐渐吸入，加入无机强碱的量为0.1‑1％；pH值调节为9‑13；(3)在负压涡流状态下逐渐加入天津晶岭微电子材料有限公司销售的FA/O活性剂，加入FA/O活性剂的量为0.25‑2％；持续时间15分钟；(4)在负压涡流状态下逐渐加入天津晶岭微电子材料有限公司销售的FA/O螯合剂，加入FA/O螯合剂的量为0.25‑2％；(5)将浓度30～50wt％的纳米SiO2溶胶用负压吸入反应器内并呈涡流状态，所述溶胶是粒径15～100nm、分散度＜0.001、莫氏硬度7的SiO2溶胶；(6)负压涡流状态下充分搅拌，搅拌时间为5‑15分钟，均匀后进行灌装；上述胺碱、无机强碱、FA/O活性剂和FA/O螯合剂的重量百分比均以最后得到的抛光液为基准。