[发明专利]蓝宝石衬底材料CMP抛光液的制备方法有效
申请号: | 201010232141.8 | 申请日: | 2010-07-21 |
公开(公告)号: | CN102010669A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 刘玉岭;牛新环;刘金玉 | 申请(专利权)人: | 天津晶岭微电子材料有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人: | 闫俊芬 |
地址: | 300130*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及蓝宝石衬底材料表面高精密加工过程中化学机械抛光(CMP)抛光液的制备方法。本方法抛光液选用纳米SiO2磨料,磨料的浓度为30-50wt%,粒径15-100nm,以利于材料的去除及表面平整化。抛光液的pH值9-13,既能满足有效去除,也能保证硅溶胶的稳定性;制备过程中采用密闭系统下负压搅拌制备法,避免了传统的复配、机械搅拌等制备方法带来的有机物、大颗粒、金属离子等的污染,可以达到超净的要求。 | ||
搜索关键词: | 蓝宝石 衬底 材料 cmp 抛光 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种蓝宝石衬底材料CMP抛光液的制备方法,其特征在于:按照下述步骤进行(重量%):(1)将密闭反应器系统用去离子水负压涡流下清洗三遍;密闭反应器原材料选用无污染的聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂;(2)在负压涡流状态下逐渐加入胺碱调节pH值,加入胺碱的量为1‑5%,无机强碱试剂用18MΩ以上超纯水稀释后在负压涡流状态下逐渐吸入,加入无机强碱的量为0.1‑1%;pH值调节为9‑13;(3)在负压涡流状态下逐渐加入天津晶岭微电子材料有限公司销售的FA/O活性剂,加入FA/O活性剂的量为0.25‑2%;持续时间15分钟;(4)在负压涡流状态下逐渐加入天津晶岭微电子材料有限公司销售的FA/O螯合剂,加入FA/O螯合剂的量为0.25‑2%;(5)将浓度30~50wt%的纳米SiO2溶胶用负压吸入反应器内并呈涡流状态,所述溶胶是粒径15~100nm、分散度<0.001、莫氏硬度7的SiO2溶胶;(6)负压涡流状态下充分搅拌,搅拌时间为5‑15分钟,均匀后进行灌装;上述胺碱、无机强碱、FA/O活性剂和FA/O螯合剂的重量百分比均以最后得到的抛光液为基准。
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