[发明专利]磁记录介质无效

专利信息
申请号: 201010234468.9 申请日: 2010-07-20
公开(公告)号: CN101964195A 公开(公告)日: 2011-02-02
发明(设计)人: 佐山淳一;根本广明;井手浩;片冈弘康;高桥伸幸;岛津武仁;北上修;冈本聪;青井基 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所;富士电机电子技术株式会社;国立大学法人东北大学
主分类号: G11B5/65 分类号: G11B5/65
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种磁记录介质,所记录的磁信号的稳定性优异并且可进行基于热辅助磁记录方式的磁信号记录。将磁记录层(50)应用于磁记录介质(1),所述磁记录层(50)包含Pt含量为44at%以上55at%以下并且Ni/(Co+Ni)的原子含量比为0.64以上0.8以下的Co-Ni-Pt合金的强磁性晶粒。就该磁记录介质(1)而言,构成磁记录层(50)的上述Co-Ni-Pt合金由于在常温下具有非常高的各向异性磁场,因此所记录的磁信号的稳定性极其优异。另外,就该磁记录介质(1)而言,构成磁记录层(50)的上述Co-Ni-Pt合金由于具有适当的温度范围的居里点,因此可通过热辅助磁记录方式来进行信号记录。
搜索关键词: 记录 介质
【主权项】:
磁记录介质,其通过一边局部加热记录介质一边施加外部磁场从而记录磁信号,所述磁记录介质的特征在于,用于记录磁信号的磁记录层包含Pt含量为44at%以上55at%以下并且Ni/(Co+Ni)的原子含量比为0.64以上0.8以下的Co‑Ni‑Pt合金的强磁性晶粒。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所;富士电机电子技术株式会社;国立大学法人东北大学,未经株式会社日立制作所;富士电机电子技术株式会社;国立大学法人东北大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010234468.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top