[发明专利]一种化学机械抛光液有效
申请号: | 201010234685.8 | 申请日: | 2010-07-23 |
公开(公告)号: | CN102337079A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 何华锋;王晨 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C09K3/14 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种化学机械抛光液,其含有研磨颗粒,氧化剂,氨基酸,季铵碱和水,且所述化学机械液的pH值为碱性。该抛光液可以实现在碱性抛光环境下对硅和铜都具有非常高的抛光速度。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】:
一种化学机械抛光液,含有:研磨颗粒,氧化剂,氨基酸,季铵碱和水,且所述化学机械液的pH值为碱性。
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