[发明专利]连续真空镀膜方法无效
| 申请号： | 201010234736.7 | 申请日： | 2010-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN102337510A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;戴龙文;陈正士 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种连续真空镀膜方法。该方法包括如下步骤：提供一基体；将该基体装载于一连续真空镀膜机中，该连续真空镀膜机的镀膜室设有阴极电弧发射源；以阴极电弧镀的方式在该基体的表面沉积一镀膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 连续 真空镀膜 方法 | ||
【主权项】：
一种连续真空镀膜方法，其包括如下步骤：提供一基体；将该基体装载于一连续真空镀膜机中，该连续真空镀膜机的镀膜室设有阴极电弧发射源；以阴极电弧镀的方式在该基体的表面沉积一镀膜层。
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