[发明专利]一种表面注入金属元素的NiTi形状记忆合金及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201010234874.5 申请日: 2010-07-21
公开(公告)号: CN101914757A 公开(公告)日: 2010-12-15
发明(设计)人: 李岩;赵婷婷;赵新青;徐惠彬 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: C23C14/48 分类号: C23C14/48;C23C14/16
代理公司: 北京永创新实专利事务所 11121 代理人: 官汉增
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提出一种表面注入金属元素的NiTi形状记忆合金及其制备方法,通过在NiTi形状记忆合金的表面注入金属元素:Hf、Zr或Nb,形成HfO2/TiO2、ZrO2/TiO2或Nb2O5/TiO2的纳米复合氧化物薄膜,所述的Hf、Zr或Nb的注入量为0.5×1017~2.5×1017个离子/cm2,所述的纳米复合氧化物薄膜的厚度为60nm~100nm,Ni元素在0~60nm的近表层分布得到抑制。该纳米复合氧化膜使NiTi形状记忆合金的耐腐蚀、耐磨性和生物相容性得到提高。
搜索关键词: 一种 表面 注入 金属元素 niti 形状 记忆 合金 及其 制备 方法
【主权项】:
一种表面注入金属元素的NiTi形状记忆合金,其特征在于:在NiTi形状记忆合金的表面注入金属元素,表面形成一层纳米复合氧化物薄膜,所述的纳米复合氧化物薄膜由二氧化钛和注入的金属元素形成的氧化物组成。
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