[发明专利]防尘薄膜组件无效
| 申请号： | 201010235003.5 | 申请日： | 2010-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN102033419A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 白崎享;塚田淳一 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种光刻用防尘薄膜组件，即使将该防尘薄膜组件贴合在曝光原版上，也能够尽可能降低因为该防尘薄膜组件框架的变形所导致的曝光原版的变形。为了达成上述目的，本发明提供一种光刻用防尘薄膜组件，其特征为，在防尘薄膜组件框架的一端面上张设防尘薄膜，在另一端面上设置粘合层，该粘合层是由凝胶组成物所构成，该凝胶组成物的ASTM(American Society for Testing and Materials，美国材料及试验协会)D-1403标准所规定的针入度宜在50以上。 | ||
| 搜索关键词： | 防尘 薄膜 组件 | ||
【主权项】：
一种光刻用防尘薄膜组件，其特征为，在防尘薄膜组件框架的一端面上张设防尘薄膜，在另一端面上设置粘合层，该粘合层是由凝胶组成物所构成。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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