[发明专利]化学机械研磨装置和方法无效
申请号: | 201010236785.4 | 申请日: | 2010-07-21 |
公开(公告)号: | CN102335869A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 葛军 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24B57/00;H01L21/304 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 谢安昆;宋志强 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学机械研磨装置,该装置包括研磨头和研磨液输出器,研磨输出器与研磨头在水平方向上间隔一定的距离,所述研磨液输出器为弧形,所述弧形与所述研磨头的部分外圆周形状匹配,在研磨液输出器上沿弧形方向上均匀分布至少2个研磨液输出头。同时,本发明还公开了一种化学机械研磨方法,采用该装置和方法能够提高化学机械研磨的精度。 | ||
搜索关键词: | 化学 机械 研磨 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种化学机械研磨装置,该装置包括研磨头和研磨液输出器,研磨输出器与研磨头在水平方向上间隔一定的距离,其特征在于,所述研磨液输出器为弧形,所述弧形与所述研磨头的部分外圆周形状匹配,在研磨液输出器上沿弧形方向上均匀分布至少2个研磨液输出头。
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