[发明专利]一种采用自由曲面透镜实现离轴照明的光刻曝光装置

摘要

本发明公开了一种采用自由曲面透镜实现离轴照明的光刻曝光装置。包括激光光源、光束扩束器、自由曲面透镜光束整形器、滤波光阑、变焦光学系统、光学积分器、准直光学系统、视场光阑、中继光学系统、掩模、光刻投影物镜、光刻胶；中继光学系统包括前透镜组、中间反射镜和后透镜组；滤波光阑所处位置和光学积分器的前表面所处位置是变焦光学系统的一对共轭位置，光学积分器后表面所处位置和视场光阑所处位置是准直光学系统的一对共轭位置，视场光阑所处位置和掩模所处位置是中继光学系统的一对共轭位置，掩模所处位置和光刻胶所处位置是光刻投影物镜的一对共轭位置。本发明整形效果好，能量利用率高。

主权项

一种采用自由曲面透镜实现离轴照明的光刻曝光装置，其特征在于包括激光光源(LS)、光束扩束器(1)、自由曲面透镜光束整形器(2)、滤波光阑(3)、变焦光学系统(4)、光学积分器(5)、准直光学系统(6)、视场光阑(7)、中继光学系统(8)、掩膜(M)、光刻投影物镜(PL)、光刻胶(W)；中继光学系统(8)包括前透镜组(8.1)、中间反射镜(8.2)和后透镜组(8.3)；激光光源(LS)的出射激光光束依次经过光束扩束器(1)、自由曲面透镜光束整形器(2)、滤波光阑(3)、变焦光学系统(4)、光学积分器(5)、准直光学系统(6)、视场光阑(7)、中继光学系统(8)、掩膜(M)、光刻投影物镜(PL)，最后照射至光刻胶(W)；滤波光阑(3)所处位置和光学积分器(5)的前表面所处位置是变焦光学系统(4)的一对共轭位置，光学积分器(5)后表面所处位置和视场光阑(7)所处位置是准直光学系统(6)的一对共轭位置，视场光阑(7)所处位置和掩膜(M)所处位置是中继光学系统(8)的一对共轭位置，掩膜(M)所处位置和光刻胶(W)所处位置是光刻投影物镜(PL)的一对共轭位置。