[发明专利]多色调光掩模、多色调光掩模的制造方法和图案转印方法

摘要

本发明涉及多色调光掩模、多色调光掩模的制造方法和图案转印方法，所述多色调光掩模在透明基板上形成有规定的转印图案，所述规定的转印图案含有遮光部、透光部和半透光部。遮光部在透明基板上层积有半透光膜和遮光膜而成。透光部露出透明基板。半透光部是形成于透明基板上的半透光膜露出而成的。半透光膜具有第1半透光层和层积于第1半透光层上的第2半透光层。以构成半透光部的第2半透光层的膜厚小于构成遮光部的第2半透光层的膜厚的方式进行了减膜。

主权项

一种多色调光掩模，其是在透明基板上形成有规定的转印图案的多色调光掩模，所述规定的转印图案含有遮光部、透光部和半透光部，其特征在于，所述遮光部是在所述透明基板上层积半透光膜和遮光膜而成的，所述透光部是所述透明基板露出而成的，所述半透光部是形成于所述透明基板上的所述半透光膜露出而成的，所述半透光膜具有第1半透光层和层积于所述第1半透光层上的第2半透光层，该多色调光掩模进行了减膜以使构成所述半透光部的所述第2半透光层的膜厚小于构成所述遮光部的所述第2半透光层的膜厚。