[发明专利]一种高光泽高透明度的珍珠制备方法无效
申请号: | 201010239496.X | 申请日: | 2010-07-27 |
公开(公告)号: | CN102334784A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 张康 | 申请(专利权)人: | 张康 |
主分类号: | A44C27/00 | 分类号: | A44C27/00;C23C14/34 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 322201 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种高光泽高透明度的珍珠制备方法,通过直流磁控反应溅射法,在珍珠表面复合一层厚度在30nm-1000nm二氧化钛膜层。镀制的镀层无色,具有良好的透明度、薄膜均匀、结合紧密、耐磨,厚薄可控制等优点。本发明解决了传统增光工艺不稳定,不能完全解决所有珍珠的增光,增光效果不理想的技术问题,大大提高了珍珠的光泽度及透明度,珍珠光泽能够达到强B以上,反射光明亮,表面映像清晰。 | ||
搜索关键词: | 一种 光泽 透明度 珍珠 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种高光泽高透明度的珍珠制备方法,其步骤依次如下:1)镀膜前的珍珠清洗及干燥处理a对珍珠进行超声波除蜡,喷淋清洗;b对珍珠进行超声波除油,喷淋清洗;c对珍珠进行纯水超声波处理2次以上;d对珍珠进行纯水漂洗2次以上;e对珍珠进行热风干燥;2)将洗净干燥后的珍珠固定在真空多弧离子镀膜机炉膛内的转架上,采用真空机组进行抽排大气,真空度保持在1.0‑5.0×10‑3;3)采用红外线将炉内温度加温至30‑150℃;4)在炉内通入氧气,溅射总气压范围为0.1~7Pa;5)将Ti靶加负偏电压到400‑600V,进行镀膜1‑30分钟。
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