[发明专利]电感耦合等离子体反应器有效
| 申请号： | 201010240670.2 | 申请日： | 2010-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN102056393A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 瓦伦丁·N·托多罗夫;萨姆尔·班纳;安库尔·阿加瓦尔;陈志刚;王泽江;安德鲁·阮;马丁·杰夫·萨利纳斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供等离子体处理设备以及形成等离子体的方法。在一些实施方式中，等离子体处理设备包括具有内处理空间的处理腔室；接近该处理腔室设置的第一RF线圈，以将RF能量耦合至该处理空间；以及接近该处理腔室设置的第二RF线圈，以将RF能量耦合至该处理空间，该第二RF线圈相对于该第一RF线圈同轴设置，其中该第一和第二RF线圈被配置为使得流经该第一RF线圈的RF电流与流经该第二RF线圈的RF电流为异相。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 等离子体 反应器 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理设备，包括：具有内处理空间的处理腔室；接近该处理腔室设置的第一RF线圈，以将RF能量耦合至该处理空间；以及接近该处理腔室设置的第二RF线圈，以将RF能量耦合至该处理空间，该第二RF线圈相对于该第一RF线圈同轴设置，其中该第一和第二RF线圈配置为使得流经该第一RF线圈的RF电流与流经该第二RF线圈的RF电流为异相。
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