[发明专利]一种利用电泳沉积制备钛硅铝碳陶瓷涂层的方法无效
申请号: | 201010240922.1 | 申请日: | 2010-07-30 |
公开(公告)号: | CN102345152A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 周延春;梁莹 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C25D13/02 | 分类号: | C25D13/02 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及可加工层状钛硅铝碳陶瓷领域,特别提供了一种利用电泳沉积制备钛硅铝碳(Ti3Si(Al)C2)陶瓷涂层的方法,解决现有技术中难以获得纯的钛硅碳(Ti3SiC2)涂层等问题。该方法以钛硅铝碳(Ti3SiAlC2)粉末、水(H2O)为原料制成悬浮液,悬浮液中钛硅铝碳(Ti3SiAlC2)的固相含量为1-5vol%,悬浮液的pH值范围为7-10,电泳时所加的电位为1-5V,沉积时间为5-30mim。本发明可以在室温、利用水基悬浮液、短时间内电泳沉积纯度高、致密度好、具有择优取向的钛硅铝碳(Ti3SiAlC2)涂层。 | ||
搜索关键词: | 一种 利用 电泳 沉积 制备 钛硅铝碳 陶瓷 涂层 方法 | ||
【主权项】:
一种利用电泳沉积制备钛硅铝碳陶瓷涂层的方法,其特征在于:1)以钛硅铝碳粉末、水为原料制成悬浮液,悬浮液中钛硅铝碳的固相含量为1‑5vol%;2)制备工艺:悬浮液的pH=7‑10,电泳沉积时所加的电位为1‑5V,沉积时间为5‑30min。
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