[发明专利]从印制电路板碱性蚀刻废液中除砷的方法有效

专利信息
申请号: 201010242896.6 申请日: 2010-07-30
公开(公告)号: CN102229452A 公开(公告)日: 2011-11-02
发明(设计)人: 兰永辉;彭韬;许世爱;高仁富;孙荣斌;肖华;邝国生 申请(专利权)人: 深圳东江华瑞科技有限公司
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04;C02F101/20;C02F101/10;C02F1/56
代理公司: 深圳市睿智专利事务所 44209 代理人: 陈鸿荫;王用强
地址: 518104 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种从印制电路板碱性蚀刻废液中除砷的方法,包括步骤:氯化镁沉淀:按每立方米印制电路板碱性蚀刻废液称取0.8~1.5千克的氯化镁,将氯化镁加入到印制电路板碱性蚀刻废液中;絮凝沉淀:按每立方米印制电路板碱性蚀刻废液称取0.8~1.5千克的絮凝剂,用水稀释称量好的絮凝剂,配置成粘稠溶液,将絮凝剂溶液加入经氯化镁沉淀后的碱性蚀刻废液中,搅拌和静置;将沉淀物过滤掉,得到除砷后的印制电路板碱性蚀刻废液。本发明除砷的方法采用氯化镁沉淀法和絮凝沉淀法共同使用,在成本低廉的情况下实现对印制电路板碱性蚀刻废液的除砷处理,具有处理成本低和除砷率高等优点,适合对大批量印制电路板碱性蚀刻废液的除砷处理。
搜索关键词: 印制 电路板 碱性 蚀刻 废液 方法
【主权项】:
一种从印制电路板碱性蚀刻废液中除砷的方法,用于从印制电路板碱性蚀刻废液生产出碱式氯化铜的前期处理,包括如下步骤:A、氯化镁沉淀:称量,按每立方米待处理印制电路板碱性蚀刻废液称取0.8~1.5千克的氯化镁;将称量好的氯化镁加入到对应量的待处理印制电路板碱性蚀刻废液中;B、絮凝沉淀:①称量,按每立方米待处理印制电路板碱性蚀刻废液称取0.8~1.5千克的絮凝剂;②配置絮凝剂溶液,用水稀释称量好的絮凝剂,搅拌配置成粘稠溶液;③将配置好的絮凝剂溶液加入经所述氯化镁沉淀后的碱性蚀刻废液中,搅拌3~20分钟,然后静置8~12小时;C、过滤:将沉淀物过滤掉,得到除砷后的印制电路板碱性蚀刻废液。
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