[发明专利]一种原位合成任意形状NiTi形状记忆合金的方法有效

专利信息
申请号: 201010243198.8 申请日: 2010-08-03
公开(公告)号: CN101899592A 公开(公告)日: 2010-12-01
发明(设计)人: 王泽敏;曾晓雁;曹宇;关凯 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: C22C19/03 分类号: C22C19/03;C22C14/00;C22C1/04
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种原位合成任意形状NiTi形状记忆合金的方法,步骤包括:粒径小于50μm且平均粒径相同的纯Ti粉和纯Ni粉按近等原子比例均匀混合、利用选区激光熔化快速成形的方法,在纯Ti金属基板上逐层预置10~20μm厚度的混合粉末层;然后利用聚焦光斑直径小于等于40μm的连续YAG或光纤激光器,在水、氧含量小于10ppm的保护环境下,将混合粉末逐点逐线逐层熔化,完成设计形状的NiTi形状记忆合金的原位合成及熔化堆积加工。本发明可以克服现有技术的难点,提供一种周期短、成本低、柔性化程度高,能合成任意形状、致密度近乎100%、且无成分偏析和杂质的镍钛形状记忆合金。
搜索关键词: 一种 原位 合成 任意 形状 niti 记忆 合金 方法
【主权项】:
1.一种原位合成任意形状NiTi形状记忆合金的方法,包括下述步骤:(1)以粒径小于50μm且平均粒径基本相同的Ti粉末和Ni粉末为原料,将两者按近等原子比混合均匀,得到Ni-Ti混合粉末,其中,近等原子比是指其中Ni粉末的原子比例为49~51%,余量为Ti粉;(2)在水、氧含量小于10PPM的保护环境下,利用选区激光熔化快速成形的方法制备近等原子比NiTi形状记忆合金:(2.1)将Ni-Ti混合粉末作为原料,采用连续YAG或光纤激光器作为能量源,聚焦光斑直径小于等于40μm,以钛板作为成形基板,将需要成形的三维图形的STL文件输入SLM快速成形设备由切片软件进行分层离散,生成激光扫描路径;(2.2)在成形基板表面预置一层10~20μm厚度的Ni-Ti混合粉末,激光器根据生成的激光扫描路径对Ni-Ti混合粉末进行扫描,使混合粉末内的Ni和Ti原位发生熔化反应生成NiTi形状记忆合金,在成形基板上形成平整的NiTi形状记忆合金熔化层;当激光功率为160~200W时,扫描速度为5~40mm/min,扫描间距为10~40μm;(2.3)当一层NiTi形状记忆合金层形成后,将成形基板下降10~20μm,再在熔化层上重新预置一层10~20μm厚度的Ni-Ti混合粉末;利用激光器按设定的路径对重新预置的Ni-Ti混合粉末层进行扫描成形,形成新的NiTi形状记忆合金熔化层;当激光功率为160~200W时,扫描速度为5~40mm/min,扫描间距为10~40μm;(2.4)重复上述步骤(2.3),直至完成整个NiTi形状记忆合金的原位合成加工,将成形件从成形基板上切割下来。
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