[发明专利]用于金属基底的半水性剥离和清洁制剂及其使用方法无效
| 申请号： | 201010246319.4 | 申请日： | 2010-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN101993797A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | M·I·埃格贝 | 申请（专利权）人： | 气体产品与化学公司 |
| 主分类号： | C11D7/32 | 分类号： | C11D7/32;C11D7/26;H01L21/3105;G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 陈文平 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于金属基底的半水性剥离和清洁制剂及其使用方法，以除去整体光致抗蚀剂、蚀刻后和灰化后的残留物以及污染物。该制剂包括：链烷醇胺、水可混溶的有机共溶剂、季铵化合物、非游离酸官能团缓蚀剂，以及剩余物水。pH大于9。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 金属 基底 水性 剥离 清洁 制剂 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种半水性剥离和清洁制剂，包括：a.链烷醇胺；b.水可混溶的有机共溶剂；c.季铵化合物；d.非游离酸官能团缓蚀剂；和e.水；其中所述制剂的pH大于9。
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