[发明专利]一种均光板及应用该均光板的基片加工设备有效
| 申请号： | 201010248253.2 | 申请日： | 2010-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN102375175A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 文莉辉 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B6/00 | 分类号： | G02B6/00;G02B3/00;G02B5/00;G02B1/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 张天舒;陈源 |
| 地址： | 100015 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于基片加工设备中的均光板，其包括一个透明的透射板以及对应于基片加工设备中的加热装置的位置而设置在透射板上的调光单元。该调光单元可对基片上正对加热装置位置处所受到的光照强度进行调节，并最终使基片得到均匀的升温。本发明同时还提供一种应用上述均光板的基片加工设备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光板 应用 加工 设备 | ||
【主权项】：
一种均光板，设置在加热装置和被加工基片之间，用以使所述加热装置的光线透过所述均光板之后均匀地照射在所述基片表面，其特征在于，所述均光板包括透明的透射板，以及相对于所述加热装置的位置而设置在所述透射板上的多个调光单元，所述调光单元对基片上与加热装置相对的区域所受到的光照强度进行调节，从而使基片上的各个区域的温度趋于均匀。
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