[发明专利]干涉膜厚仪及反射率测量方法有效
申请号: | 201010250005.1 | 申请日: | 2010-08-04 |
公开(公告)号: | CN101995224A | 公开(公告)日: | 2011-03-30 |
发明(设计)人: | 藤井史高 | 申请(专利权)人: | 株式会社堀场制作所 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G01N21/55 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 李雪春;武玉琴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种干涉膜厚仪及反射率测量方法。本发明的干涉膜厚仪(100),可以省略每次测量检查工件的光反射率时都必须进行的附带测量(特别是测量校正试样),可以促进缩短测量时间及简化装置结构。在检测头(4)内部配置光反射率固定的内部反射机构(8),并且被该内部反射机构(8)反射的光被光检测器(2)接收,根据实际上光没有被导入状态下的光检测器(2)的输出值、使用实际上不反射光的黑试样时的所述光检测器(2)的输出值、使用光反射率已知的校正试样时的光检测器(2)的输出值以及使用作为测量对象的检查工件时的光检测器(2)的输出值,计算出所述检查工件的光反射率。 | ||
搜索关键词: | 干涉 膜厚仪 反射率 测量方法 | ||
【主权项】:
一种干涉膜厚仪,其特征在于包括:下述(1)~(4)所示的检测头、光检测器、内部反射机构以及反射率计算部,(1)所述检测头,用于把测量光射向对象物,并且导入来自所述测量光所照射的所述对象物的反射光;(2)所述光检测器,检测接收到的光的强度,所述光检测器的光接收部被配置在导入所述检测头内的所述反射光到达的位置;(3)所述内部反射机构,位于所述检测头内的一部分所述测量光到达的位置,并且配置在使被所述内部反射机构反射的光到达所述光检测器的光接收部的位置,所述内部反射机构的光反射率是固定的;(4)所述反射率计算部,在从属测量期间内,测量:第一输出值,该第一输出值是在实际上光没有被导入状态下的所述光检测器的输出值;第二输出值,该第二输出值是把实际上不反射光的黑试样作为所述对象物使用时的所述光检测器的输出值;以及第三输出值,该第三输出值是把光反射率已知的校正试样作为所述对象物使用时的所述光检测器的输出值,所述从属测量期间是实际上能够忽略所述光检测器的输出值变动的期间;并且在主测量期间内,测量:第四输出值,该第四输出值是在实际上光没有被导入状态下的所述光检测器的输出值;第五输出值,该第五输出值是把所述黑试样作为所述对象物使用时的所述光检测器的输出值;以及第六输出值,该第六输出值是把作为测量对象的检查工件作为所述对象物使用时的所述光检测器的输出值,所述主测量期间是所述从属测量期间以外的期间,并且是实际上能够忽略所述光检测器的输出值变动的期间;根据所述第一输出值~所述第六输出值,计算出所述检查工件的光反射率。
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