[发明专利]一种环境补偿对准系统有效
| 申请号： | 201010250448.0 | 申请日： | 2010-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN102375352A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 李运锋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于光刻设备的对准系统，该对准系统包括光源与照明模块、对准标记、成像模块、参考光栅、信号采集处理模块、工件台、运动台、位置采集与运动控制模块、环境测量模块、对准操作与管理模块。利用环境测量模块实时测量对准光束传播环境的参数，利用该参数补偿对准时由于环境波动导致的对准误差，提高了对准精度和测量稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 环境 补偿 对准 系统 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的对准系统，包括：提供对准照明光束的光源与照明模块；对对准标记进行成像的成像模块；参考光栅；采集透过参考光栅的光强信号并进行处理的信号采集处理模块；对准标记；承载硅片的工件台；运动台；采集承载硅片的工件台的位置信息，并与对准操作与管理模块进行同步谈判，规划运动轨迹，控制运动台的运动的位置采集与运动控制模块；和接收信号采集处理模块和位置采集与运动控制模块的信号的对准操作与管理模块，其特征在于：还包括环境测量模块，所述的环境测量模块用于测量和采集对准衍射光束传播路线所处的环境变量，并将采集到的环境变量信息传输到对准操作与管理模块；所述的对准操作与管理模块利用光强数据、工件台位置数据和环境变量信息确定对准位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010250448.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
