[发明专利]电光源用钼窄带的制备方法无效

专利信息
申请号: 201010250451.2 申请日: 2010-08-11
公开(公告)号: CN102371272A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 吴彦 申请(专利权)人: 吴彦
主分类号: B21B1/22 分类号: B21B1/22
代理公司: 杭州金源通汇专利事务所(普通合伙) 33236 代理人: 唐迅
地址: 313200 浙江省湖州市德*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种电光源用钼窄带的制备方法,包括采用钼丝经冷轧成钼窄带的生产过程,其特征是在钼丝经冷轧成钼窄带的生产过程中,其参数控制如下:a、钼丝的预处理:轧制过程中进行再结晶退火;b、温轧开坯:开坯温度在950℃至1000℃;c、冷轧:钼窄带的冷加工率分为:成品冷轧总加工率和中间冷轧总加工率,中间冷轧总加工率控制在60%;d、消除应力退火:钼窄带的退火温度在850~1100℃内。本发明提供的电光源用钼窄带的制备方法,劳动生产率高、成品率高,钼窄带不仅内部质量好、没有分层、裂纹等缺陷,而且表面光洁。
搜索关键词: 光源 窄带 制备 方法
【主权项】:
一种电光源用钼窄带的制备方法,包括采用钼丝经冷轧成钼窄带的生产过程,其特征是在钼丝经冷轧成钼窄带的生产过程中,其参数控制如下:a、钼丝的预处理:轧制过程中进行再结晶退火;b、温轧开坯:开坯温度在950℃至1000℃;c、冷轧:钼窄带的冷加工率分为:成品冷轧总加工率和中间冷轧总加工率,中间冷轧总加工率控制在60%;d、消除应力退火:钼窄带的退火温度在850~1100℃内;e、检验:通过电光源材料检测设备检测。
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