[发明专利]无氰电镀金的镀液及采用无氰电镀金的镀液电镀金的方法有效
申请号: | 201010250821.2 | 申请日: | 2010-08-11 |
公开(公告)号: | CN101906649A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
发明(设计)人: | 安茂忠;杨培霞;张锦秋;杨潇薇;冯慧峤 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C25D3/48 | 分类号: | C25D3/48 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 韩末洙 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 无氰电镀金的镀液及采用无氰电镀金的镀液电镀金的方法,它涉及一种镀液及电镀方法。本发明解决了氰化物镀液有毒,以及亚硫酸盐镀金液稳定性差的问题。本发明无氰电镀金的镀液由配位剂、三氯化金、碳酸钾、焦磷酸钾和复配添加剂组成。本发明电镀金的方法如下:用氢氧化钠调节无氰电镀金的镀液的pH值,然后采用恒电流方式,在阴极与阳极的距离为5cm~20cm、温度为30℃~60℃的条件下施镀。本发明的无氰电镀金的镀液中不含有剧毒物质,且镀液稳定性很好,镀液在使用(包括施镀和补充成分)30天内,未发生浑浊、变色等现象。同时10mL镀液在连续施镀通过电量0.15Ah后,仍能得到表面状态优良的镀层。 | ||
搜索关键词: | 无氰电 镀金 采用 镀液电 方法 | ||
【主权项】:
无氰电镀金的镀液,其特征在于无氰电镀金的镀液由配位剂、三氯化金、碳酸钾、焦磷酸钾和复配添加剂组成;无氰电镀金的镀液中配位剂的浓度为40g/L~150g/L,金离子的浓度为4g/L~15g/L,碳酸钾的浓度为60g/L~120g/L,焦磷酸钾的浓度为30g/L~70g/L,复配添加剂的浓度为1ml/L~10ml/L;所述复配添加剂为稀土盐、有机物和表面活性剂的混合物。
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