[发明专利]适合用来除去光刻胶、光刻胶副产物和蚀刻残余物的组合物及其应用无效
| 申请号： | 201010251766.9 | 申请日： | 2004-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN101916052A | 公开（公告）日： | 2010-12-15 |
| 发明（设计）人： | J·M里克尔;T·维德;D·L·德拉姆 | 申请（专利权）人： | 空气产品及化学制品股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了一种不含链烷醇胺的组合物，所述组合物包含：a)至少一种胺，它包括氨基烷基吗啉；b)羟胺；c)有机稀释剂；d)水；e)腐蚀抑制剂；所述组合物的pH大于7。还公开了用所述组合物从基片上除去光刻胶、光刻胶副产物和残余物，以及蚀刻残余物的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 适合 用来 除去 光刻 副产物 蚀刻 残余物 组合 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种不含链烷醇胺的组合物，所述组合物包含：a)至少一种胺，它包括氨基烷基吗啉；b)羟胺；c)有机稀释剂；d)水；e)腐蚀抑制剂；所述组合物的pH大于7。
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