[发明专利]圆片的光刻方法无效
| 申请号： | 201010253479.1 | 申请日： | 2010-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN101963764A | 公开（公告）日： | 2011-02-02 |
| 发明（设计）人： | 张春华;张馨月 | 申请（专利权）人： | 无锡春辉科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 许方 |
| 地址： | 214024 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公布了一种圆片的光刻方法，将圆片放入光刻机，光刻机的汞光灯强8～12mw/cm2、曝光时间3～6秒。本发明提高汞光灯的光强，大大降低了工作时间，提高了效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种圆片的光刻方法，其特征在于包括如下步骤：将圆片放入光刻机，光刻机的汞光灯强8～12mw/cm2、曝光时间3～6秒，所述圆片为匀胶后的硅片。
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