[发明专利]气体供给装置以及真空处理设备有效
| 申请号： | 201010257198.3 | 申请日： | 2010-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN101994091A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 植野伸彦;宫内信人;若林秀纪 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种气体供给装置，其包括：室框架；门，其附装到室框架以便使门能够打开和关闭，并具有阴极；门侧引入块，其附装到门，并且具有用于供给放电气体到阴极的气体流动路径；和室侧引入块，其附装到室框架，并具有用于将从室框架外部引入的放电气体供给到门侧引入块的气体流动路径。当门关闭时，门侧引入块的气体流动路径和室侧引入块的气体流动路径彼此连通。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 供给 装置 以及 真空 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种气体供给装置，包括：室框架；门，所述门附装到所述室框架以便使所述门能够打开和关闭，并且具有阴极；门侧引入块，其附装到所述门，并且具有用于供给放电气体到所述阴极的气体流动路径；和室侧引入块，其附装到所述室框架，并且具有用于将从所述室框架外部引入的放电气体供给到所述门侧引入块的气体流动路径，其中，当所述门关闭时，所述门侧引入块的气体流动路径和所述室侧引入块的气体流动路径彼此连通。
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