[发明专利]用于均匀化二极管激光器泵浦阵列的方法和系统无效
| 申请号： | 201010259267.4 | 申请日： | 2010-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN101997266A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 安迪·J·贝拉米安 | 申请（专利权）人： | 劳伦斯·利弗莫尔国家安全有限责任公司 |
| 主分类号： | H01S5/04 | 分类号： | H01S5/04;H01S5/06;H01S3/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 杜诚;陈炜 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种光放大器系统包括二极管泵浦阵列，该二极管泵浦阵列包括多个半导体二极管激光棒，该多个半导体二极管激光棒被布置为阵列结构并且以相邻半导体二极管激光棒之间的周期性距离为特征。周期性距离是在垂直于多个半导体二极管激光棒中的每个的第一方向上测量的。该二极管泵浦阵列提供泵浦输出，该泵浦输出沿光路传播并且以根据第一方向测量的并具有大于10％的变化的第一强度分布为特征。该光放大器系统还包括沿光路布置的衍射镜片。该衍射镜片包括光热折射玻璃构件。该光放大器系统还包括放大器板条，其具有沿光路的输入面和位置，并且与衍射镜片间隔预定距离。根据第一方向在放大器板条的输入面处测量的第二强度分布具有小于10％的变化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 均匀 二极管 激光器 阵列 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种光放大器系统，包括：二极管泵浦阵列，其包括多个半导体二极管激光棒，所述半导体二极管激光棒被布置为阵列结构并且以相邻半导体二极管激光棒之间的周期性距离为特征，所述周期性距离是在垂直于所述多个半导体二极管激光棒中的每个的第一方向上测量的，其中所述二极管泵浦阵列提供泵浦输出，所述泵浦输出沿光路传播并且以根据所述第一方向测量的、具有大于10％的变化的第一强度分布为特征；沿所述光路布置的衍射镜片，其中所述衍射镜片包括光热折射玻璃构件；以及放大器板条，其具有沿所述光路的输入面和位置，并且与所述衍射镜片间隔预定距离，其中根据所述第一方向在所述放大器板条的所述输入面处测量的第二强度分布具有小于10％的变化。
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