[发明专利]向多模光纤末端以线性相位模式匹配发射光的方法和装置有效

专利信息
申请号: 201010261386.3 申请日: 2010-08-20
公开(公告)号: CN101997610A 公开(公告)日: 2011-03-30
发明(设计)人: 大卫·G·卡宁哈曼 申请(专利权)人: 安华高科技光纤IP(新加坡)私人有限公司
主分类号: H04B10/13 分类号: H04B10/13;H01S3/00;H01S5/00;G02F1/35
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 柳春雷;南霆
地址: 新加坡*** 国省代码: 新加坡;SG
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摘要: 发明提供了向多模光纤末端以线性相位模式匹配发射光的方法和装置。方法和装置被提供来以激励出多模光纤(MMF)中的一个或多个较高阶HMG模式群的方式将光发射到光学链路的MMF的入射面中。激励出MMF中的较高阶HMG模式群增大了链路的带宽,同时还提供了降低的模式噪声。另外,选择性地激励MMF中的一个或多个较高阶HMG模式群确保了发射将提供希望的结果,即使在将MMF的末端连接到光学收发器或发送器的连接器相对于光学收发器或发送器的插座偏移的情况中也是如此。该特征允许了制造连接器和插座时的更大制造容差,因为它们之间的精确对准对于实现成功发射并不至关重要。
搜索关键词: 光纤 末端 线性 相位 模式 匹配 发射 方法 装置
【主权项】:
一种厄米‑高斯(HMG)光学发射装置,用于在光学上将激光发射到多模光纤(MMF)中以激励MMF的至少一个目标较高阶HMG模式群,所述HMG光学发射装置包括:激光器,用于产生激光;至少一个光学元件,被定位成接收由所述激光器产生的激光,所述至少一个光学元件被配置为将所接收的激光聚焦到至少一个腰部;线性相位掩膜,被定位在下述位置处:该位置使得由所述激光器产生的激光被所述至少一个光学元件聚焦到腰部并被引导到所述线性相位掩膜中,所述线性相位掩膜配置有相位模式,该相位模式致使将被引导到所述线性相位掩膜的激光的相位变更为与MMF的所述至少一个目标HMG模式群的相位匹配或基本匹配;其中,所述激光器、所述至少一个光学元件和所述线性相位掩膜被相对于彼此并相对于MMF的入射面定位成使得经相位变更的激光具有在所述MMF的入射面处与MMF的所述至少一个目标较高阶HMG模式群的腰部匹配或基本匹配的腰部,并且其中,入射在所述MMF的入射面上的所述经相位变更的激光致使激励出所述目标较高阶HMG模式群,并且其中,对所述目标较高阶HMG模式群的激励致使增大了MMF的模式带宽。
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