[发明专利]一种坩埚真空气体淀积涂层工艺无效
| 申请号： | 201010262295.1 | 申请日： | 2010-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN102373501A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | 司继成;沈凯峰;沈凯冰;王金根 | 申请（专利权）人： | 南通路博石英材料有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/10 | 分类号： | C30B15/10;C23C14/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 226100 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种坩埚真空气体淀积涂层工艺，采用低档原料制成坩埚主体，在坩埚内表面通过真空气体淀积的方法涂以适当厚度的高纯原料。本发明适于浅结工艺，设备简单，重复性好，膜的成分可精确控制，配比范围较大，淀积速率快，产能强，膜结构致密、完整，与衬底粘附性好，台阶覆盖性能好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 坩埚 真空 气体 涂层 工艺 | ||
【主权项】：
一种坩埚真空气体淀积涂层工艺，其特征在于：采用低档原料制成坩埚主体，在坩埚内表面通过真空气体淀积的方法涂以适当厚度的高纯原料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南通路博石英材料有限公司，未经南通路博石英材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010262295.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
