[发明专利]滤色片保护层的光敏树脂组合物,采用其的滤色片保护层,和包含其的图像传感器有效
申请号: | 201010263291.5 | 申请日: | 2010-08-25 |
公开(公告)号: | CN102109761A | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
发明(设计)人: | 金宰贤;崔世荣;金南光;郑宜浚;李昌珉 | 申请(专利权)人: | 第一毛织株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/027;G02B5/20;G02B1/10;H04N5/335 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 李丙林;张英 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供了一种滤色片保护层的光敏树脂组合物,其包括含有由以下化学式1表示的重复单元的可交联碱溶树脂、反应性不饱和化合物、光聚合引发剂和溶剂。在化学式1~3中,R1至R6和A1至A3与具体实施方式中定义的相同。本发明还提供了一种采用该光敏树脂组合物生产的滤色片保护层,以及一种包括作为外涂层或同时用作微透镜的外涂层的该滤色片保护层的图像传感器。 | ||
搜索关键词: | 滤色片 保护层 光敏 树脂 组合 采用 包含 图像传感器 | ||
【主权项】:
1.一种滤色片保护层的光敏树脂组合物,包括:(A)包括含有由以下化学式1表示的重复单元的可交联碱溶树脂的碱溶树脂;(B)反应性不饱和化合物;(C)光聚合引发剂;和(D)溶剂:[化学式1]其中,在化学式1中,A1是取代的或未取代的芳族有机基团或取代的或未取代的脂环族有机基团,A2由以下化学式2或3表示,R1和R3独立地是取代的或未取代的亚烃基,R2是氢或取代的或未取代的烷基,以及R4是氧原子或取代的或未取代的胺基,[化学式2]其中,在化学式2中,A3是取代的或未取代的芳族有机基团,或取代的或未取代的脂环族有机基团,以及[化学式3]其中,在化学式3,R5和R6独立地是氢、卤素、或取代的或未取代的烷基。根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中所述碱溶树脂(A)所具有的重均分子量(MW)范围为1000~50,000。根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中所述光敏树脂组合物包括0.1wt%至30wt%的所述碱溶树脂(A);0.1wt%至30wt%的所述反应性不饱和化合物(B);0.05wt%至10wt%的所述光聚合引发剂(C);其余的为所述溶剂(D)。根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其进一步包括(E)添加剂,所述添加剂选自由硅烷偶联剂、表面活性剂及其组合组成的组。一种采用根据权利要求1至4中的一项所述的光敏树脂组合物生产的滤色片保护层。一种包括作为外涂层或同时用作微透镜的外涂层的根据权利要求5所述的滤色片保护层的图像传感器。
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