[发明专利]一种化学机械抛光液无效

专利信息
申请号: 201010264137.X 申请日: 2010-08-24
公开(公告)号: CN102373013A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 徐春 申请(专利权)人: 安集微电子(上海)有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;C23F3/04;B24B29/00
代理公司: 上海翰鸿律师事务所 31246 代理人: 李佳铭
地址: 201203 上海市浦东新区张江高*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种化学机械抛光液,其含有研磨颗粒,氧化剂,抛光速率提升剂,稳定剂和载体。本发明的化学机械抛光液可以通过抛光体系的作用提高金属速率,提高抛光液稳定时间,减少对抛光垫,抛光机台的污染,同时控制金属的材料的局部和整体腐蚀,减少衬底表面污染物,提高产品良率。
搜索关键词: 一种 化学 机械抛光
【主权项】:
一种化学机械抛光液,含有研磨颗粒,氧化剂,抛光速率提升剂,稳定剂和载体。
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