[发明专利]临界入射干涉仪有效
| 申请号： | 201010265566.9 | 申请日： | 2010-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN101995210A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 栗山丰;大峠怜也 | 申请（专利权）人： | 株式会社三丰 |
| 主分类号： | G01B9/02 | 分类号： | G01B9/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 马高平 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种临界入射干涉仪，其包括：光束分离部分，被构造成将来自光束源部分的光束分离为出射到测量表面的测量光束和作为测量参考的参考光束，并且被构造为使得测量光束倾斜地出射到测量表面；光束组合部分，被构造成组合参考光束和在测量表面反射的测量光束，以获得组合光束；探测部分，被构造成基于组合光束产生的干涉条纹探测测量表面轮廓；以及图像反转元件，被构造成反转测量光束或参考光束的波阵面取向，图像反转元件被设置在从光束分离部分到光束组合部分的测量光束或参考光束的光路中。 | ||
| 搜索关键词： | 临界 入射 干涉仪 | ||
【主权项】：
临界入射干涉仪包括：光束源部分；光束分离部分，被构造成将来自光束源部分的光束分离为出射到测量表面的测量光束和作为测量参考的参考光束，并且被构造为使得测量光束倾斜地出射到测量表面；光束组合部分，被构造成组合参考光束和在测量表面反射的测量光束，以获得组合光束；探测部分，被构造成基于所述组合光束产生的干涉条纹探测测量表面的轮廓；以及图像反转元件，被构造成反转所述测量光束或参考光束的波阵面取向，其中：所述光束分离部分使所述参考光束以其直接到达所述光束组合部分的方位角出射；并且所述图像反转元件被设置在从所述光束分离部分导向光束组合部分的测量光束或参考光束的光路中。
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