[发明专利]极远紫外扫描成像光谱仪无效

专利信息
申请号: 201010271607.5 申请日: 2010-09-03
公开(公告)号: CN101963529A 公开(公告)日: 2011-02-02
发明(设计)人: 唐义;吴雁;刘健鹏;倪国强;张止戈 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/18;G01J3/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种极远紫外扫描成像光谱仪,包括光学系统、控制系统和探测器。光学系统包括扫描系统、望远系统、分光系统,扫描系统包括扫描反射镜,对来自目标的入射光线进行反射;望远系统包括,光阑,用于接收扫描反射镜的反射光,并选择一定视场角范围内的光进入光谱仪,和成像物镜,将来自光阑的光聚焦至分光系统的入射狭缝;分光系统,接收来自成像物镜的光,利用其中的光栅进行分光,同时还将分光后的光聚焦至成像探测器的光敏面处进行成像;光学系统中的各个光学元件除光阑和狭缝外均采用全反射式光学元件,所有反射元件均镀极远紫外反射膜。
搜索关键词: 紫外 扫描 成像 光谱仪
【主权项】:
一种极远紫外扫描成像光谱仪,包括光学系统、控制系统和探测器,光学系统包括扫描系统、望远系统、分光系统,扫描系统包括扫描反射镜,对来自目标的入射光线进行反射;望远系统包括,光阑,用于接收扫描反射镜的反射光,并选择一定视场角内的光进入光谱仪;成像物镜,将来自光阑的光聚焦至分光系统的入射狭缝;分光系统,接收来自成像物镜的光,利用其中的光栅进行分光,同时还将分光后的光聚焦至探测器的光敏面处进行成像;其特征在于,光学系统中的各个光学元件除光阑和狭缝外均采用全反射式光学元件,所有反射元件均镀极远紫外反射膜。
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