[发明专利](103)取向的钇钡铜氧高温超导薄膜的制备方法有效
申请号: | 201010272544.5 | 申请日: | 2010-08-31 |
公开(公告)号: | CN102383191A | 公开(公告)日: | 2012-03-21 |
发明(设计)人: | 苏晓东 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | C30B23/02 | 分类号: | C30B23/02;C30B23/06;C30B29/22;H01B12/06;C04B35/45 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 常亮;李辰 |
地址: | 221138 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种(103)取向的钇钡铜氧(YBa2Cu3O7-δ,YBCO)高温超导薄膜的制备方法,该方法以YBCO为靶材,利用真空沉积装置,在2~10Pa的压强、800~850℃的温度下在(100)取向的MgO单晶基片上沉积外延生长YBCO超导薄膜。在上述条件下,两个(103)取向的YBCO晶格和三个(100)取向的MgO的晶格有比较接近的晶格匹配关系,因此,实现了在(100)取向的MgO单晶基片直接原位外延生长(103)取向的YBCO高温超导薄膜。实验结果表明,本发明制备的钇钡铜氧高温超导薄膜具有良好的(103)择优方向,薄膜表面平整,结晶性好,超导临界转变在90K左右。 | ||
搜索关键词: | 103 取向 钇钡铜氧 高温 超导 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种(103)取向的钇钡铜氧高温超导薄膜的制备方法,其特征在于,包括:将(100)取向的MgO单晶基片放置在真空沉积装置生长室的样品台;以YBa2Cu3O7‑δ为靶材,先抽生长室真空度至10‑3~10‑6Pa之间,再向所述生长室中通入氧气至2~10Pa的压强、样品台温度加热至800~850℃区间,在所述(100)取向的MgO单晶基片上沉积生长出(103)取向的钇钡铜氧高温超导薄膜。
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