[发明专利]在硬质合金基体表面制备纳米结构氮硅锆涂层的方法无效
| 申请号： | 201010274510.X | 申请日： | 2010-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN101921982A | 公开（公告）日： | 2010-12-22 |
| 发明（设计）人： | 王周成;黄若轩;祁正兵;孙鹏;朱芳萍 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/34 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所 35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005 *** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 在硬质合金基体表面制备纳米结构氮硅锆涂层的方法，涉及一种硬质合金。提供一种在硬质合金基体表面制备纳米结构氮硅锆涂层的方法。采用直流和射频反应共溅射法，通过控制Si靶功率制备纳米结构氮硅锆硬质涂层。当ZrSiN涂层中Si含量降低时，Si原子在涂层中以取代Zr原子的形式存在，低Si含量的ZrSiN涂层为固溶体，截面为柱状结构。随着Si含量的增加ZrSiN涂层的固溶度增加，硬度随之增加。当涂层中Si含量达到一定量以后，过多Si元素会与N元素在晶界处形成非晶态Si3N4。随着涂层中Si含量进一步增加会产生大量的非晶态Si3N4，严重抑制ZrN晶粒生长，影响涂层结晶度，涂层变为非晶态，为非柱状等轴结构。 | ||
| 搜索关键词： | 硬质合金 基体 表面 制备 纳米 结构 氮硅锆 涂层 方法 | ||
【主权项】：
在硬质合金基体表面制备纳米结构氮硅锆涂层的方法，其特征在于包括以下步骤：1)基体预处理；2)预溅射；3)溅射沉积。
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