[发明专利]层状结构、定影部件和图像形成装置无效
| 申请号： | 201010275023.5 | 申请日： | 2010-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN102200733A | 公开（公告）日： | 2011-09-28 |
| 发明（设计）人： | 松本晃一;林惠一 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/20 | 分类号： | G03G15/20;G03G15/00;B32B25/04 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;王伶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及层状结构、定影部件和图像形成装置。提供了一种层状结构，其包括：基体以及顺序地设置在所述基体上的弹性层和防粘层，该层状结构满足如下公式1和公式2中的至少一个，所述公式1为：在20℃至30℃的温度下所述弹性层与所述基体之间的层间剥离力＜在20℃至30℃的温度下所述弹性层的内聚破坏力；并且所述公式2为：在20℃至30℃的温度下所述弹性层与所述防粘层之间的层间剥离力＜在20℃至30℃的温度下所述弹性层的内聚破坏力。 | ||
| 搜索关键词： | 层状 结构 定影 部件 图像 形成 装置 | ||
【主权项】：
一种层状结构，其包括：基体以及顺序地设置在所述基体上的弹性层和防粘层，该层状结构满足公式1和公式2中的至少一个，所述公式1为：在20℃至30℃的温度下所述弹性层与所述基体之间的层间剥离力＜在20℃至30℃的温度下所述弹性层的内聚破坏力；所述公式2为：在20℃至30℃的温度下所述弹性层与所述防粘层之间的层间剥离力＜在20℃至30℃的温度下所述弹性层的内聚破坏力。
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