[发明专利]曝光设备和图像形成装置无效
申请号: | 201010275032.4 | 申请日: | 2010-09-06 |
公开(公告)号: | CN102163026A | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
发明(设计)人: | 三锅治郎;小笠原康裕;清水敬司 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04;B41J2/45;G02B5/32;G03G15/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;王伶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及曝光设备和图像形成装置。该曝光设备包括:多个发光元件的发光元件阵列,多个发光元件沿预定方向以第一间隔成排地排列;以及全息元件阵列,在所述全息元件阵列中的多个全息元件被多路记录在记录层中,该记录层设置在所述发光元件阵列的上方,所述多个全息元件对应于所述多个发光元件中的每一个,使得从所述多个发光元件发出的光的衍射光束会聚,以在待曝光的表面处以比所述第一间隔小的第二间隔沿预定方向成排地形成聚束光点。 | ||
搜索关键词: | 曝光 设备 图像 形成 装置 | ||
【主权项】:
一种曝光设备,该曝光设备包括:多个发光元件的发光元件阵列,所述多个发光元件沿预定方向以第一间隔成排地排列;以及全息元件阵列,在所述全息元件阵列中的多个全息元件被多路记录在记录层中,该记录层设置在所述发光元件阵列的上方,所述多个全息元件对应于所述多个发光元件中的每一个,使得从所述多个发光元件发出的光的衍射光束会聚,以在待曝光的表面处以比所述第一间隔小的第二间隔沿所述预定方向成排地形成聚束光点。
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