[发明专利]一种基于KTN晶体的变焦透镜的轴向随机扫描方法无效

专利信息
申请号: 201010275473.4 申请日: 2010-09-08
公开(公告)号: CN101963699A 公开(公告)日: 2011-02-02
发明(设计)人: 杜睿;曾绍群;骆清铭 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;G02F1/03
代理公司: 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人: 唐正玉
地址: 430074 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种基于KTN晶体的变焦透镜的轴向随机扫描方法,包括如下步骤:提供一种长方体KTN晶体,所述长方体KTN晶体包含Ta和Nb,其中Ta的重量百分比在所述长方体KTN晶体1的两个相对表面之间线性变化;在所述两个相对表面各镀上一电极层,在所述两个相对表面的电极层上施加一电压;将入射波前垂直入射到所述长方体KTN晶体的其他表面,所述长方体KTN晶体对所述入射波前进行折射并聚焦,其中所述入射波前为平面波;改变施加在所述两个相对表面的电极层上的电压,进而改变所述长方体KTN晶体对所述入射波前聚焦的焦距。本方法扫描范围理论上可以达到500μm,可运用于神经元和神经回路功能的研究。
搜索关键词: 一种 基于 ktn 晶体 变焦 透镜 轴向 随机 扫描 方法
【主权项】:
一种基于KTN晶体的变焦透镜的轴向随机扫描方法,包括如下步骤:提供一种长方体KTN晶体,所述长方体KTN晶体包含Ta和Nb,其中Ta的重量百分比在所述长方体KTN晶体1的两个相对表面之间线性变化;在所述两个相对表面各镀上一电极层,在所述两个相对表面的电极层上施加一电压;将入射波前垂直入射到所述长方体KTN晶体的其他表面,所述长方体KTN晶体对所述入射波前进行折射并聚焦,其中所述入射波前为平面波;改变施加在所述两个相对表面的电极层上的电压,进而改变所述长方体KTN晶体对所述入射波前聚焦的焦距。
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